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刻蚀负载效应

什么是刻蚀负载效应反应面积小的刻蚀速率大,因为面积小,反应剂消耗的慢

等离子刻蚀机中的“source power”以及“bias power通过控制Bias Power,即偏置功率,可以增强等离子体的方向性,改变刻蚀过程中的深度,侧墙角度负载效应;此外

ICP刻蚀原理:气体、功率的选择--ICP操作流程二、刻蚀的基本要求 9 (负载效应、图形的保真度、均匀性、表面形貌、刻蚀的清洁)三、等离子体刻蚀的基本过程 11 (物理溅射刻蚀

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